天星(xing)致力(li)于为电子行业提(ti)供好的产(chan)品(pin)、技术和(he)(he)服务。通过我们的ISO体系认证和(he)(he)质(zhi)量保证体系，过程控(kong)制，保持严格的程序来监(jian)控(kong)和(he)(he)提(ti)高产(chan)品(pin)质(zhi)量。

天(tian)星的(de)(de)电子气体(ti)在半导体(ti)器件、光(guang)伏、液(ye)晶(jing)面板(ban)的(de)(de)制(zhi)造中发挥着重要(yao)作用。这些气体(ti)用于制(zhi)造过程的(de)(de)所有(you)阶段 – 从形成(cheng)单个(ge)硅晶(jing)体(ti)的(de)(de)生长，到晶(jing)圆制(zhi)造，至最终组装(zhuang)和包装(zhuang)。

前驱体(ti)气体(ti)

硅烷(wan)和二氯(lv)硅烷(wan)等硅前体气体用于外延和化(hua)学气相(xiang)沉积工艺，以沉积硅或硅化(hua)合物(wu)层(ceng)。

掺杂气体(ti)

掺(chan)杂剂气体是可控杂质(zhi)的(de)来源，用于改(gai)变半(ban)导体材(cai)料的(de)局(ju)(ju)部电气性(xing)能。掺(chan)杂剂对分子晶(jing)格的(de)局(ju)(ju)部结构贡献了电子，改(gai)变了材(cai)料的(de)导电性(xing)能。

掺(chan)杂(za)剂(ji)有(you)液态、固态和气(qi)态。常用的掺(chan)杂(za)气(qi)体(ti)有(you)砷烷(wan)、磷(lin)(lin)烷(wan)、乙(yi)硼烷(wan)。掺(chan)杂(za)剂(ji)用于外(wai)(wai)延沉(chen)积(ji)、扩散和离子注入(ru)。砷烷(wan)和磷(lin)(lin)烷(wan)的增(zeng)长得(de)益于气(qi)相(xiang)外(wai)(wai)延法（VPE）和金(jin)属有(you)机气(qi)相(xiang)沉(chen)积(ji)法（VMOCVD）的广泛应(ying)用。

蚀刻(ke)剂气体

蚀刻工(gong)艺中(zhong)使(shi)用(yong)到多种气(qi)体。卤素(su)烃通常用(yong)于蚀刻硅化合物(wu)或用(yong)于腔室(shi)(shi)的(de)清(qing)洁，氯或氟(fu)(fu)化合物(wu)用(yong)于金属蚀刻。气(qi)体的(de)选(xuan)择(ze)在很大程(cheng)度上取决于给定的(de)气(qi)体混合物(wu)选(xuan)择(ze)性地蚀刻一层(ceng)薄膜(mo)的(de)能力，并能够(gou)对轮廓(kuo)进(jin)行控制。三(san)氟(fu)(fu)化氮(dan)是CVD腔室(shi)(shi)清(qing)洁的(de)气(qi)体。

工艺(yi)气(qi)体

高纯、超(chao)高纯的氩、氦(hai)、氢(qing)和(he)氮，在电子工(gong)(gong)艺中用于系(xi)(xi)统的吹扫(sao)和(he)保压，防止管路系(xi)(xi)统受到污染。溅射镀膜(mo)工(gong)(gong)艺中，氩是用来电离和(he)启(qi)动溅射过程的主要气体(ti)。

电(dian)子用混合气体

在天星电子(zi)特气(qi)(qi)（苏州）工厂，混(hun)合气(qi)(qi)体(ti)按(an)照电子(zi)行(xing)业(ye)要(yao)(yao)求的(de)严格的(de)公差(cha)进行(xing)混(hun)合配(pei)(pei)制。混(hun)合气(qi)(qi)配(pei)(pei)制系统旨在减少气(qi)(qi)瓶间和生产批(pi)次间的(de)差(cha)异。混(hun)合气(qi)(qi)配(pei)(pei)制系统使用计算机建模能保证(zheng)产品中的(de)杂质水平(ping)和组分公差(cha)得到有(you)效的(de)控(kong)制，符合行(xing)业(ye)要(yao)(yao)求的(de)规格。